AMAT 股票：應用材料公司侵占 ASML 業務

應用材料公司 (AMAT) 為其最新的半導體製造工具贏得了積極評價，該工具針對使用極紫外或 EUV 光刻設備製造的高端芯片，來自業內同行 ASML (ASML). 消息傳出後，AMAT 股票反彈至買入區域。

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總部位於加利福尼亞州聖克拉拉的應用材料公司週二推出了兩款新產品。 首先，Centura Sculpta 系統有望成為 EUV 雙圖案化的更簡單、更快速且更具成本效益的替代方案。 其次，VeritySEM 10 系統可精確測量使用 EUV 和新興的 High-NA EUV 光刻圖案化的半導體器件特徵的尺寸。

“我們認為應用材料公司的公告總體上是積極的，因為我們相信 Centura Sculpta 和 VeritySEM 10，儘管程度較低，但擴大了公司在前沿圖案化方面的機會，”德意志銀行分析師 Sidney Ho 在一份報告中表示客戶。 他將 AMAT 股票評級為買入。

從競爭的角度來看，他認為短期內不會對其他半導體設備廠商產生重大影響，包括 ASML、 KLA (吉隆坡) and 林研究 (LRCX). 他說，原因是可能需要幾年時間才能將 Centura Sculpta 平台添加到主要芯片製造商的大批量製造流程中。

Ho 說，應用材料公司預計在未來兩到四年內，新產品將帶來數億美元的收入貢獻。

AMAT 股票因產品新聞而上漲

在交易中 今天股市，AMAT股價上漲1%，收於117.26。 週二，AMAT 股價上漲 3.6%，收於 116.15 點，當天收於 5%買入區 其最近的 突圍.

1 月 XNUMX 日，AMAT 股票突破了 杯底 在 購買點 116.19 年，根據 IBD 市場史密斯 圖表。 但它退回到它的 50日移動平均線，一個關鍵的支持水平，在應用材料公司報告其 第一財季業績. 然而，在一個積極的跡像中，它沒有下降到足以觸發止損 賣出規則，基於 IBD 交易指南.

公告發布後，瑞銀分析師 Timothy Arcuri 重申了他對 AMAT 股票的中性評級。 他在給客戶的說明中說，應用材料公司的新產品是一個很好的補充，但不會改變公司的遊戲規則。

ASML 可能面臨的長期不利因素

Centura Sculpta 平台 可以為生產尖端芯片的芯片製造商節省大量成本並加快生產速度。 它消除了 EUV 芯片製造過程中稱為雙重圖案化的第二步。

雙圖案化是指一種光刻方法，隨著特徵尺寸變小，芯片圖案在同一位置印刷兩次以獲得更好的分辨率和精度。

TD Cowen 分析師 Krish Sankar 表示，Applied Materials 系統使用一種稱為圖案成形的技術補充了 EUV 光刻技術。 它使用等離子帶狀束從晶圓上去除掩模材料。 Sankar 將 AMAT 股票評為跑贏大盤。

Sankar 在一份報告中表示，從長遠來看，該系統可能會給 ASML 帶來不利影響。 他說，這是因為製造工藝的改進可能會減少所需的 EUV 光刻系統。

技術領導者名單上的芯片齒輪製造商

週三，ASML 股價下跌 0.5%，收於 614.95 美元。 週二，它下跌了 2.3%。

根據 IBD 的半導體設備行業組別，ASML 股票在 29 隻股票中排名第五 IBD 庫存檢查. AMAT 股票在該集團中排名第八。

ASML 和應用材料都在 IBD 技術領導者 列表。 KLA 和 Lam Research 也在技術領導者名單上。

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